大日本印刷は２７日、半導体のウエハー（基板）の回路形成に使う原版「フォトマスク」で、最先端の回路線幅２ナノメートル（ナノは１０億分の１）の半導体向けの製造方法開発を本格的に始めたと発表した。安定的に生産できる技術を２０２５年度までに確立した上で、２７年度には量産を始めたい考えだ。