記事 最新ニュース TOPPAN、IBMと2ナノ幅マスクを共同開発へ=EUV向けで協業―半導体 TOPPAN、IBMと2ナノ幅マスクを共同開発へ=EUV向けで協業―半導体 2024/02/07 出典:時事通信社