- 2023/12/12 掲載
大日本印刷、3ナノ半導体マスク開発=最先端のEUV露光装置に対応
大日本印刷は12日、半導体のウエハーに回路を焼き付ける際に使う原版「フォトマスク」で、最先端の回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)向けの製品を開発したと発表した。微細な回路形成が可能な極端紫外線(EUV)露光装置に対応する。回路線幅が微細な高性能半導体はスマートフォンやデータセンター向けに需要が拡大しており、同社は半導体メーカーや製造装置メーカーなどに販売する方針だ。
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