• トップページ
  • 大日本スクリーン、半導体ウエハー洗浄の液流動挙動のシミュレーション解析技術を確立

  • 2010/09/10 掲載

大日本スクリーン、半導体ウエハー洗浄の液流動挙動のシミュレーション解析技術を確立

  • icon-mail
  • icon-print
  • icon-hatena
  • icon-line
  • icon-close-snsbtns
会員になると、いいね!でマイページに保存できます。
大日本スクリーン製造は10日、独自の数値シミュレーションを利用し、ウエハー表面の液流動挙動に関する解析技術を確立した。
photo
ウエハー表面の液流動挙動
 大日本スクリーン製造は、半導体製造装置の生産合理化やプロセス開発の効率化に役立つ、ウエハー表面の液流動挙動に関する解析技術を確立した。

 このシミュレーション解析技術は、同社独自のアルゴリズムを採用した数値解析ツールを使い、回転させたウエハー表面の液流動挙動を解析するもの。シミュレーションで得られた数値データの精度を検証するために、専用の枚葉式洗浄装置を製作し、ウエハー表面を流れる薬液の速度分布や液膜の厚みを3次元的に実測。さらに、高速カメラで挙動を可視化し、シミュレーション結果と実測値がほぼ合致することを確認したという。

 これにより、従来の実験・計測手法では把握することが難しかったナノレベルの情報が容易に得られ、また、製品開発の初期段階で装置の性能を的確に予測し、設計にフィードバックできるようになる。さらに、プロセスや材料を変更した場合の実効性や生産能力の限界予測も行えるため、大口径ウエハーの検証をはじめさまざまな実験に幅広く活用できるなど、開発ツールとしても期待できるとしている。

評価する

いいね!でぜひ著者を応援してください

  • 0

会員になると、いいね!でマイページに保存できます。

共有する

  • 0

  • 0

  • 0

  • 0

  • 0

  • 0

  • icon-mail
  • icon-print
  • icon-hatena
  • icon-line
あなたの投稿

    PR

    PR

    PR

処理に失敗しました

人気のタグ

投稿したコメントを
削除しますか?

あなたの投稿コメント編集

機能制限のお知らせ

現在、コメントの違反報告があったため一部機能が利用できなくなっています。

そのため、この機能はご利用いただけません。
詳しくはこちらにお問い合わせください。

通報

このコメントについて、
問題の詳細をお知らせください。

ビジネス+ITルール違反についてはこちらをご覧ください。

通報

報告が完了しました

コメントを投稿することにより自身の基本情報
本メディアサイトに公開されます

必要な会員情報が不足しています。

必要な会員情報をすべてご登録いただくまでは、以下のサービスがご利用いただけません。

  • 記事閲覧数の制限なし

  • [お気に入り]ボタンでの記事取り置き

  • タグフォロー

  • おすすめコンテンツの表示

詳細情報を入力して
会員限定機能を使いこなしましょう!

詳細はこちら 詳細情報の入力へ進む
報告が完了しました

」さんのブロックを解除しますか?

ブロックを解除するとお互いにフォローすることができるようになります。

ブロック

さんはあなたをフォローしたりあなたのコメントにいいねできなくなります。また、さんからの通知は表示されなくなります。

さんをブロックしますか?

ブロック

ブロックが完了しました

ブロック解除

ブロック解除が完了しました

機能制限のお知らせ

現在、コメントの違反報告があったため一部機能が利用できなくなっています。

そのため、この機能はご利用いただけません。
詳しくはこちらにお問い合わせください。

ユーザーをフォローすることにより自身の基本情報
お相手に公開されます